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還不了解什么是PECVD系統(tǒng)?請看這里!

時間:2024-09-26 點擊次數(shù):1572
   什么是PECVD系統(tǒng)?它是化學氣相沉積法,是一種化工技術(shù),該技術(shù)主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)、在襯底表面上進行化學反應(yīng)生成薄膜的方法。它是一種PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)的管式爐系統(tǒng),它由500W射頻電源、帶有200毫米直徑石英管的可拆分管式爐、真空泵和三通道質(zhì)量流量計氣體流動系統(tǒng)組成。它可以混合1-3種氣體用于CVD或擴散。
  
  化學氣相淀積法已經(jīng)廣泛用于提純物質(zhì)、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態(tài)無機薄膜材料。這些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素間化合物,而且它們的物理功能可以通過氣相摻雜的淀積過程精確控制?;瘜W氣相淀積已成為無機合成化學的一個新領(lǐng)域,PCEVD是等離子體增強化學氣相沉積英文的各個詞字母的首字母。
  
  PECVD系統(tǒng)是借助微波或射頻等使含有薄膜成分原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學反應(yīng)能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應(yīng),因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)。
  
  注意事項:
  1、設(shè)備爐膛溫度≥200℃時,禁止打開爐膛,避免受到傷害;
  2、設(shè)備使用時,爐管內(nèi)壓力不得超過0.02MPa(絕對壓力),以防止壓力過大造成設(shè)備損壞;
  3、當爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態(tài);
  4、在對樣品加熱時,不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù),絕對壓力表讀數(shù)不要大于0.02MPa,必須立刻打開排氣端閥門,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等)。

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